Donoval, D., Breza, J., Racko, J., Harmatha, L., & Benko, P. SIMULATION OF ELECTRICAL PARAMETERS FOR Ru/Ta2O5/SiO2/Si(p) HIGH - K MOS STRUCTURE.
Citácia podľa Chicago (17th ed.)Donoval, Daniel, Juraj Breza, J. Racko, Ladislav Harmatha, a P. Benko. SIMULATION OF ELECTRICAL PARAMETERS FOR Ru/Ta2O5/SiO2/Si(p) HIGH - K MOS STRUCTURE.
Citácia podľa MLA (8th ed.)Donoval, Daniel, et al. SIMULATION OF ELECTRICAL PARAMETERS FOR Ru/Ta2O5/SiO2/Si(p) HIGH - K MOS STRUCTURE.
Upozornenie: Tieto citáce sú generované automaticky. Nemusia byť úplne správne podľa citačných pravidiel..
