Preskočiť na obsah
Košík:
0
záznamov
(Plný)
Prihlásiť
Jazyk
Anglický
Slovenský
Katalóg
Katalóg monografií
Katalóg článkov
Katalóg voľných diel
Katalóg obchodne nedostupných diel
Všetko
Názov
Autor
Predmet
Signatúra
ISBN/ISSN
Hľadať
Pokročilé
A-C:H FILMS DEPOSITION BY SPUT...
Vytvoriť citáciu
Vytlačiť
Exportovať záznam
Export to MARC
Export to BibTeX
Export to Jednoduchý textový výpis
Export to ISBD (text)
Export to Citácia ISO 690 (HTML)
Export to Citácia ISO 690 (.doc)
Pridať do košíka
Odobrať z košíka
Trvalý odkaz
A-C:H FILMS DEPOSITION BY SPUTTERING/CVD METHOD
Podrobná bibliografia
Hlavný autor:
Lazar, G.
(Autor)
Médium:
Článok
Jazyk:
slovenčina
angličtina
Pozri predplatné
Predplatné
Kliknite na „Pozri predplatné“.
Exempláre
Popis
Podobné exempláre
UNIMARC/MARC
Popis
Žiadný popis.
Podobné exempláre
Deposition of AlN Films by Unbalanced Reactive Magnetron Sputtering
Autor: Búc, Dalibor, a ďalší
HARDNESS EVALUATION OF A TUNGSTEN FILM DEPOSITED BY PLASMA ENHANCED CVD TECHNIQUE
Autor: Kottfer, Daniel, 1959-, a ďalší
PREPARATION OF COPPER DOPED DLC FILMS BY DC PE-CVD METHOD
Autor: Marion, Marian, a ďalší
RAMAN STUDY OF FREE-STANDING DIAMOND FILMS AND COATINGS DEPOSITED ON TUNGSTEN CARBIDE TOOLS PREPARED BY HOT-FILAMENT CVD METHOD
Autor: Malcher, V., a ďalší
Properties of sputtered NiO thin films
Autor: Hotový, Ivan, 1957-, a ďalší
