Defects formation in boron implanted silicon during rapid isothermal annealing

Bibliographic Details
Main Authors:	Lenhard, R. (elektrotechnik) (Author), Luby, Štefan, 1941- (Author)
Format:	Article
Language:	English
Subjects:	kremík izotermické žíhanie chyby materiálov články z novín a časopisov

Similar Items