Skip to content
Book Bag:
0
items
(Full)
Login
Language
English
Slovak
Catalog
Catalog Books
Articles
Catalog ONDV
Catalog OND
All Fields
Title
Author
Subject
Call Number
ISBN/ISSN
Find
Advanced
Príčiny vzniku povrchových oxi...
Cite this
Print
Export Record
Export to MARC
Export to BibTeX
Export to Jednoduchý textový výpis
Export to ISBD (text)
Export to Citácia ISO 690 (HTML)
Export to Citácia ISO 690 (.doc)
Add to Book Bag
Remove from Book Bag
Permanent link
Príčiny vzniku povrchových oxidačných vrstevných chýb v technológii CMOS ; Dušan Korytár, A. Weissensteiner, M. Bunčiak, M. Ožvold
Bibliographic Details
Main Authors:
Korytár, Dušan
(Author)
,
Weissensteiner, A.
(Author)
,
Bunčiak, M.
(Author)
,
Ožvold, Milan, 1941-
(Author)
Format:
Article
Language:
Slovak
Subjects:
technológia CMOS
články z novín a časopisov
Pozri predplatné
Predplatné
Kliknite na „Pozri predplatné“.
Holdings
Description
Similar Items
Staff View
Similar Items
Vplyv povrchových oxidačných vrstevných chýb v technológii CMOS na elektrické parametre PN-priechodov
by: Stehlík, Štefan
Vplyv povrchových oxidačných vrstevných chýb v technológii CMOS na generačný čas života minoritných nosičov určený z C-V kriviek
by: Šuranová, Viera, et al.
Impact of CMOS Physical Failures on Power Supply Current
by: Butaš, Ján, et al.
Contribution to the Creation of Design Rules for CMOS ICs with a Higher Supply Voltage
by: Malý, Ľudovít, et al.
Fault Detection and Location in Augmented CMOS Devices, Design Considerations
by: Manhaeve, H. A. R., et al.