Preskočiť na obsah
Košík:
0
záznamov
(Plný)
Prihlásiť
Jazyk
Anglický
Slovenský
Katalóg
Katalóg monografií
Katalóg článkov
Katalóg voľných diel
Katalóg obchodne nedostupných diel
Všetko
Názov
Autor
Predmet
Signatúra
ISBN/ISSN
Hľadať
Pokročilé
SPECTROELLIPSOMETRIC CHARACTER...
Vytvoriť citáciu
Vytlačiť
Exportovať záznam
Export to MARC
Export to BibTeX
Export to Jednoduchý textový výpis
Export to ISBD (text)
Export to Citácia ISO 690 (HTML)
Export to Citácia ISO 690 (.doc)
Pridať do košíka
Odobrať z košíka
Trvalý odkaz
SPECTROELLIPSOMETRIC CHARACTERIZATION OF ION IMPLANTED SEMICONDUCTORS AND POROUS SILICON
Podrobná bibliografia
Hlavní autori:
Lohner, T.
(Autor)
,
Khánh, N. Q.
(Autor)
,
Zolnai, Zs
(Autor)
Médium:
Článok
Jazyk:
slovenčina
angličtina
Pozri predplatné
Predplatné
Kliknite na „Pozri predplatné“.
Exempláre
Popis
Podobné exempláre
UNIMARC/MARC
Podobné exempláre
Solid phase recrystallization of thin polycrystalline silicon films implanted with Si+ ions
Autor: Ožvold, Milan, 1941-, a ďalší
Investigation of Osseointegration of Porous Materials for Orthopedic Implants
Autor: Sidun, Jarosław, 1971-, a ďalší
MECHANICAL PROPERTIES OF POROUS SILICON NITRIDE
Autor: Kašiarová, Monika, a ďalší
MICROSTRUCTURE ANALYSIS OF POROUS SILICON CARBIDE
Autor: Dusza, Jan, a ďalší
Investigation of BF2+ Implanted Silicon by Capacitance Methods
Autor: Kinder, Rudolf, a ďalší