Cover Image

Emission spectroscopy investigation of a RF-CCl4-plasma in a planar etch reactor ; J. Meichsner, J. Trnovec, V. Martišovitš, P. Lukáč, H. W. Poll

Bibliographic Details
Main Authors: Meichsner, J. (Author), Trnovec, J. (Author), Martišovitš, Viktor, 1939- (Author), Lukáč, P. (Author), Poll, H. W. (Author)
Format: Article
Language:English
Slovak
PhysicalDescription:Obr. 8. Tb. 1. Res. slov., angl., rus., lit. 16 zázn. v angl., nem.
Subjects:
reaktor planárny leptací
vysokofrekvenčná plazma
spektroskopia emisná
články zo zborníkov
Description
Physical Description:Obr. 8. Tb. 1. Res. slov., angl., rus., lit. 16 zázn. v angl., nem.

Similar Items