Influence of frequency of RF discharge on reactive ion etching of trench structures

Bibliographic Details
Main Authors:	Haščík, Š. (Author), Horniaková, A. (Author), Huran, Jozef (Author)
Format:	Article
Language:	English
Subjects:	polovodiče reaktívne iónové leptanie výboje elektrické vysokofrekvenčné články z novín a časopisov

Similar Items