Skip to content
Book Bag:
0
items
(Full)
Login
Language
English
Slovak
Catalog
Catalog Books
Articles
Catalog ONDV
Catalog OND
All Fields
Title
Author
Subject
Call Number
ISBN/ISSN
Find
Advanced
Odolnost resistů ER 1 a SCR 17...
Cite this
Print
Export Record
Export to MARC
Export to BibTeX
Export to Jednoduchý textový výpis
Export to ISBD (text)
Export to Citácia ISO 690 (HTML)
Export to Citácia ISO 690 (.doc)
Add to Book Bag
Remove from Book Bag
Permanent link
Odolnost resistů ER 1 a SCR 17.1 při plazmovém leptání
Bibliographic Details
Main Author:
Novotný, Zdeněk
(Author)
Format:
Article
Language:
Czech
Subjects:
integrované obvody
elektrónová litografia
plazmové leptanie
rezisty
polymetylmetakryláty
články z novín a časopisov
Pozri predplatné
Predplatné
Kliknite na „Pozri predplatné“.
Holdings
Description
Similar Items
Staff View
Similar Items
Plazmatické a iontové leptání
by: Jech, Čestmír, 1925-2002
Dry Etching for Microelectronics
by: Luby, Štefan, 1941-
Plasma etching of deep Si-trenches with CBrF3 and dilutions
by: Handke, R., et al.
Reaktor na plazmochemické leptanie hliníkových vrstiev pre mikroelektroniku ; V. Martišovitš, J. Trnovec, M. Zahoran, I. Košinár, O. Mikuš, V. Šurda, M. Polášek
by: Martišovitš, Viktor, 1939-, et al.
Litografické metódy
by: Pospíchal, Tomáš, et al.