Solid phase recrystallization of thin polycrystalline silicon films implanted with Si+ ions

Podrobná bibliografia
Hlavní autori:	Ožvold, Milan, 1941- (Autor), Tuchscher, Ľ. (Autor), Čičmanec, Pavol, 1933-2018 (Autor), Dobročka, Edmund (Autor), Hurtová, O. (Autor), Kopačková, K. (Autor), Vávra, Ivo, 1949- (Autor)
Médium:	Článok
Jazyk:	slovenčina angličtina
PhysicalDescription:	Fotogr. 5, grafy 6, tab. 1, lit. 14 zázn. v angl., češ.
ISSN:	0323-0465
Predmet:	vrstvy tenké Si rekryštalizácia články z novín a časopisov

Popis
Fyzický popis:	Fotogr. 5, grafy 6, tab. 1, lit. 14 zázn. v angl., češ.
ISSN:	0323-0465

Podobné exempláre